CSPM5500系列扫描探针显微镜

纳米加工系统

 

精确的路径位移定位

自定义图形加载功能

可以在纳米级尺度上加工任意需要的复杂结构


  图形刻蚀模式  
 

    利用电致刻蚀技术,可以在纳米级尺度上加工任意需要的复杂结构。   

    电致刻蚀主要由一个施加在样品与表面间的脉冲电压引起,当所加电压超过阈值时,暴露在电场下的样品表面会发生化学或物理变化。这些变化或者可逆或者不可逆,其机理可以直接归因于电场效应,高度局域化的强电场可以诱导原子的场蒸发,也可以由电流焦耳热或原子电迁移引起样品表面的变化。通过控制脉冲宽度和脉幅可以限制刻蚀表面的横向分辨率,这些变化通常不仅表现在表面形貌上,通过检测其导电性、dI/dS、dI/dV、摩擦力还可以分辨出衬底的修饰情况。


  压痕/机械刻画  
 

    操纵微探针以可控的作用力对样品表面进行局域施压,使样品发生弹性/塑性形变;也可在施压的同时,控制探针以一定的路径和速度在样品运动,对样品进行机械刻画。

    基于扫描探针显微镜(SPM)系统的压痕/机械刻画功能,为在纳米尺度上评价材料的机械和运动性能,或在样品表面构建特定的纳米结构提供了一种方便实用的研究手段。

 
  矢量扫描模式  
 

   

    系统提供一个向量脚本编译器,允许用户任意指定扫描方向、距离、速度及加工参数(如作用力、电流、电压等),直接操纵探针运动,同时灵活测定各种信号和数据。

 
  DPN浸润笔模式  
 

    DPN(Dip-Pen Nanolithography)浸润笔利用已作过分子修饰的探针,通过控制探针与样品间的相互作用条件,来实现探针针尖到样品表面的分子传输。

    DPN实际上是一种简便的从探针针尖到样品表面的输运分子的方法,其分辨率可媲美电子束刻蚀等方法,对纳米器件的功能化更为有用。

 
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